多尺寸放大倍率校准标样（CDMS标样）整体为2.5 x 2.5mm大，厚度675µm ±25µm，可以快速、便捷且准确地校准 SEM, FESEM, FIB, CD-SEM, LM 及 AFM 的放大倍率。而此款CDMS-0.1C标样的可矫正范围为10 - 200,000倍，适用于扫描电镜和大多数场发射扫描电镜。此标样有多种一维栅格尺寸，分别为：100nm, 250nm, 500nm, 1µm,  2µm, 5µm, 10µm, 0.25mm, 0.5mm, 1mm 及 2mm。因其包含的栅格尺寸范围广，故此一个标样可用于多个放大倍数范围的校准，经济实惠。

    依据《扫描电子显微镜校准规范》（引用GB/T 20307-2006 《纳米级长度的扫描电镜测量方法通则》），扫描电镜校准项目所采用的标准样板为等间距上个标准样板，包含5个以上周期，根据所校准的放大倍数，选取相应的校准样板，如下表所示；故应用此CDMS标样校准放大倍数时，100nm的一维栅格可用于校准放大倍数100k~1000k，250nm的一维栅格可用于校准放大倍数20k~100k，500nm的一维栅格可用于校准放大倍数10k~20k，1µm和2µm的一维栅格可用于校准放大倍数3k~10k。

    此CDMS标样运用目前先进的半导体和微电子系统制成。50nm的铬沉积于超平的硅衬底上形成100nm~5µm的一维栅格，50nm金沉积于20nm的铬之上形成2µm~100nm的栅格图样。硅衬底表面未镀膜。尺寸较小的栅格被环绕在尺寸较大的栅格里面以便于迅速定位，栅格的尺寸误差不超过0.3%。

    此种Cr和Au/Cr沉积于Si衬底上的栅格图样在二次电子和背散射电子成像时会形成良好的对比，较直接在硅衬底上刻蚀的标样更易呈现具有对比度的像。由于标样衬底为硅材质，Cr和Au/Cr皆有导电性，因此此标样并不易产生荷电效应；且表面结构坚固，可以用等离子清洗机清洁其表面。

    每个CDMS标样都有特殊的序列号。有带直径12.5mm钉形样品台或不带样品台两种规格可选。

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